토토 사이트. Central Research Institute (Director : Takeda Eiji)는 최근에 차세대 반도체를위한 알루미늄 (AL) 토토사이트 토토카페 가공을위한 건식 에칭 기술을 개발했습니다. 최소 선 너비(*1)가있는 차세대 반도체 장치 120 나노 미터 중 120 나노 미터 라인 및 공간 (선 너비 및 갭)에서 최소 선 너비에 해당하는 대량 생산 금속 토토사이트 토토카페이 필요합니다. 이번에는 토토 사이트의 독특한 UHF-ECR 플라즈마 생성 기술이 있습니다(*2)에칭 가스를 최적화하기 위해 120 나노 미터 라인의 가공 토토사이트 토토카페 패턴과 가공 정확도가 10 나노 미터의 가공 토토사이트 토토카페 패턴을 달성했습니다.이 기술은 저비용 AL 토토사이트 토토카페을 차세대 및 이후 반도체 장치에 적용 할 수 있으며, 반도체 장치의 소형화 및 비용 절감에 기여할 수있는 대량 생산 된 처리 기술입니다.
반도체 장치가 더욱 소형화되면서 토토사이트 토토카페 간격이 빠르게 조밀 해졌으며 미세 금속 토토사이트 토토카페 처리는 반도체 제조 공정에서 새로운 기술 문제가되었습니다. 이 중, 알루미늄 합금을 사용하는 메모리 LSI (대규모 통합 회로)는 토토사이트 토토카페 재료가 가장 까다로운 정밀도를 가지며 최소 선 너비가 120 나노 미터 인 차세대 LSI의 경우 120 개의 나노 미터 라인 및 공간으로 토토사이트 토토카페을 형성해야했습니다.3699_3837(*3)를 사용하여, (1) 저항 마스크에서 생성 된 탄소 함량 (토토사이트 토토카페 토토카페 패턴을 형성하기 위해 적용된 고도로 에칭 방지 폴리머 필름) 및 (2) 탄소 가스를 첨가하여 생성 된 탄소 함량을 사용하여 측면 에칭을 억제하고, 이는 혈장에 분해되고 전선에서 보호 필름으로서 흡착된다. 그러나, 토토사이트 토토카페 토토카페 폭이 거의 100 나노 미터로 감소되면, 저항 필름 두께는 약 300 나노 미터로 제한되어 저항 마스크가 넘지 않도록합니다. 이로 인해 저항 마스크에서 탄소 함유 재료를 공급하기가 어렵 기 때문에 매우 정확한 AL 토토사이트 토토카페 토토카페 처리를 가능하게하는 보호 필름을 형성하기가 어렵습니다.
이러한 배경으로 인해 차세대 반도체의 AL 토토사이트 토토카페 토토카페 가공을 수용하기 위해 (1) 저항 마스크에 의존하지 않는 드라이 에칭 기술과 (2) 보호 필름의 고밀도 패턴에 적합한 탄소 포함을 생성하는 기술을 개발했습니다. 이 기술에는 두 가지 기능이 있습니다.
(1) 토토사이트 토토카페 가스를 선택하여 저항과 무관하게 고정밀 가공을 달성 산업적으로 사용 가능한 클로로 카본 기반 토토사이트 토토카페 가스가 탄소를 함유 한 토토사이트 토토카페 가스가 첨가되어 저항에 의존하지 않고 측면 토토사이트 토토카페을 방지하는 데 필요한 탄소 함량을 제공했습니다. 또한, 클로로 카본 토토사이트 토토카페 가스에 의해 형성된 증착 된 필름은 산소 혈장에 의해 쉽게 제거 될 수있어 외래 물질이나 잔류 물이 거의없는 질량 생산 가공에 적합하다.
(2) UHF-ECR 플라즈마를 사용한 고정밀 토토사이트 토토카페 실현 중간 밀도 및 저압 혈장을 생성하는 토토 사이트의 독점 UHF-ECR 혈장이 토토사이트 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 처리에 적용되었습니다. 이 영역에서 플라즈마를 사용하면 고밀도 혈장을 사용한 종래의 에칭과 비교하여 측벽 입구에서 쉽게 흡착되지 않고 좁은 토토사이트 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페과 토토사이트 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 사이에서 탄소 함량을 생성 할 수 있습니다. 따라서, 고밀도 패턴에서도 측면 에칭이 억제 될 수있다. 이 방법은 또한 장치 손상을 줄이는 이점이 있습니다.
이번에는이 기술을 300 나노 미터 두께의 저항 마스크를 사용하여 120 나노 미터의 라인 너비로 AL 토토사이트 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페을 가공하는 데 적용했으며, 결과적으로 10 나노 미터의 가공 정확도로 고정밀 가공을 달성했습니다.이 기술은 최소 선 너비가 100 나노 미터 이상인 반도체 장치의 저렴한 AL 토토사이트 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페 토토카페을 가능하게하며, 반도체 장치의 소형화 및 비용 절감에 기여할 수있는 대량 생산 처리 기술입니다. 또한, 저항 마스크에서 생성 된 탄소 포함에 의존하지 않기 때문에, 실리콘 산화물 및 실리콘 질화물 마스크는 향후 소개를 위해 고려되고있다.(*4)를 사용하여 AL 토토사이트 토토카페 가공에도 적용 할 수 있습니다.
이 결과는 9 월 26 일부터 도쿄에서 개최 된 2001 년 국제 솔리드 스테이트 요소 및 재료 회의 (SSDM2001)에서 발표되었습니다.
■ 터미널 설명
| (1) |
최소 선 너비 120 나노 미터 : ITRS (International)는 반도체의 표준 로드맵으로 전 세계적으로 토토사이트 토토카페됩니다. |
| (2) |
UHF-ECR 플라즈마 생성 기술 : UHF 파 (초고파)과 자기장 토토사이트 토토카페의 공명 현상을 사용하여 중간 밀도와 저압 플라즈마를 안정적으로 균일하게 생성하는 기술. |
| (3) |
플라즈마 토토사이트 토토카페 : 반응성 가스가 혈장 상태로 배출되는 과정, 생성 된 라디칼 (반응 종) 및 이온은 고체 물질과 반응하여 이들을 반응 생성물로 제거합니다. 이 시점에서, 처리 할 재료에 대한 저항으로 마스크 패턴이 형성되며,이를 따라 미세한 패턴이 형성된다. |
| (4) |
실리콘 산화물 마토토사이트 토토카페 및 실리콘 질화물 마토토사이트 토토카페 : 실리콘 산화물 물질 (SIO2) 및 토토사이트 토토카페 질화물 물질 (SI3n4)를 사용하는 마스크입니다. 저항보다 더 높은 토토사이트 토토카페 선택성을 제공하기 때문에 차세대 반도체 장치에서 알루미늄 합금의 토토사이트 토토카페 마스크로 도입되고있는 것으로 간주되고 있습니다. 저항 마스크와 달리 마스크 재료에는 탄소가 포함되어 있지 않으며 마모 된 경우에도 탄소 함유 물질을 생산하지 않으므로 처리하기가 어렵습니다. |
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